催化净化原理：光氧催化设备分解废气中的有机污染物分成两个阶段，

    第一阶段利用高能高臭氧UV紫外线光束（发出的波长主要为170nm及184.9nm,能量为742kj/mol和647kj/mol）照射恶臭气体，打开有机（恶臭）废气如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，VOC类，苯、甲苯、二甲苯等分子键结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子键断裂；在高能紫外线光束照射下废气中氧气转化为臭氧（高臭氧紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)）与被打开的有机分子键的游离态的原子氧化（分子重组）转变成低分子化合物，如CO2、H20等。

    第二阶段利用灯管两边的催化层上的半导体光催化剂TiO2（光催化剂是指在光的辐照下，自身不发生变化，却可以促进化学反应的物质；促进化合物的合成或使化合物降解的过程为光催化反应；光催化反应利用光能转换成为化学反应所需的能量，来产生催化作用），在受到紫外线光激发下，电子从价带跃迁到导带位置，在导带形成光生电子，在价带形成光生空穴。利用光生电子-空穴对的还原性和氧化性能来降解废气中的有机污染物。两个阶段相辅相成，利用复合工艺来达到最大化分解有机污染物的目的。

    本设备广泛应用于电子、电器、线路板、电镀、机械、化工、电厂、矿业、冶炼、橡胶、家具、皮革、纸业、陶瓷、汽车制造等行业的喷涂、印刷、印花、丝印挥发性有机废气；各类恶臭气体的除臭净化处理及各种化工厂永处理站、医院、制药厂、食品厂、垃圾中转站等场所的有机废气除臭、杀菌的净化处理。